窒化シリコンメンブレンTEMウィンドウ <SiN Membrane TEM Windows>
5nm, 10nm, 20nm, 50nm, Micro Porous
● プラズマクリーニングが可能 : 窒化シリコンTEMウィンドウは、カーボングリッドと異なり強度にプラズマクリーニングが可能です。
● 均一性の向上 : フィールドからフィールドへの変動性が減少しました。
● 1000℃以上の耐熱性 : 高温で動的プロセスが観察される環境のTEMをサポートします。
● 化学的・機械的に非常に堅牢 : ほぼ全ての酸、アルカリ、有機溶媒に耐えることができ、コロイド、繊維、ナノ粒子、粉末、高分子及び線材料などの沈着、成長を直接支持膜上で観察、解析することができます。半導体産業に一般的なCVD、スパッター、電子ビーム或いは蒸着法などを適用できます。
● シリコンフレーム:径3mm
Amorphous Pure Silicon | Porous Nanocrystalline Silicon | Silicon Dioxide | Silicon Nitride | カーボン膜 <標準> | カーボン膜 <極薄> |
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非結晶 純シリコン膜 | 多孔ナノ結晶性 シリコン膜 | 二酸化 シリコン膜 | 窒化 シリコン膜 |
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メンブレン厚 | 5, 9, 15nm | 30nm | 20, 40nm | 5, 10 20, 50nm | 20~50nm | ~10nm |
画質 | 優れる | 良好 | 有効 | 良好 | 有効 | 良好 |
プラズマ洗浄 | 可能 | 不可 | ||||
元素分析 バックグラウンド | Siのみ | Si, O | Si, N | C, H | ||
熱的安定性 | ~600℃ | >1000℃ | ~400℃ | |||
化学安定性 | 強塩基を避ける | 良好 | 優れる | 良好 | ||
高ビーム電流 耐性 | 優れる | 有効 | 優れる | |||
コンタミネーション 原因物質 | なし | カーボン | ||||
ナノスケール細孔 | なし | 有り | なし | なし | ||
バックグラウンド 特色 | なし | ナノ結晶 | なし | なし |
窒化シリコンメンブレンTEMウィンドウ
Cat No. | フレーム厚 | 膜厚 | ウィンドウ | 枚数 |
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SN100-A05Q00 | 100μm | 5nm | 25×25μm Single Window | 10 |
SN100H-A05Q33A [Hex frame] | 50×50μm (8) 50×100μm (1) 9 Windows |
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SN100-A05L | 50×1500μm (2) 2 Slots |
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SN100H-A10Q33B [Hex frame] | 10nm | 250×250μm (8) 250×500μm (1) 9 Windows |
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SN100-A20Q05 | 20nm | 500×500μm Single Window |
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SN100H-A20Q33 [Hex frame] | 100×100μm (8) 100×350μm (1) 9 Windows |
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SN100-A50Q01 | 50nm | 100×100μm Single Window |
微細孔窒化シリコンメンブレンTEMウィンドウ
<Microporous Silicon Nitride Membrane TEM Windows>
500×500μmウィンドウ内の20nmまたは50nm厚の窒化シリコン膜に、2μmの微細孔がパターン形成されています。微細孔ウィンドウは様々な薄膜(例:グラフェン)のマウントに使用できます。また、CryoEM及び高傾斜トモグラフィーに使用することができます。70°傾斜角では、斜角の付けられた薄い100μmフレームは、どんな回転配向からのウィンドウ中心内領域(~50×50μm)も使用することができます。
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Cat No. | フレーム厚 | 膜厚 | ウィンドウ | 枚数 |
---|---|---|---|---|
SN100-A20MP2Q05 | 100μm | 20nm | 500×500μm | 10 |
SN100-A50MP2Q05 | 20nm |